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84862039.20
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）)
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13% |
台/千克 |
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0条 |
--
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84862039.30
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）)
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13% |
台/千克 |
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0条 |
对比-84862039.20
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84862039.40
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）)
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13% |
台/千克 |
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0条 |
对比-84862039.30
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84862039.50
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制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）)
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13% |
台/千克 |
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0条 |
对比-84862039.40
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84862039.90
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未列名制造半导体器件或集成电路用的光刻设备
(未列名制造半导体器件或集成电路用的光刻设备)
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13% |
台/千克 |
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0条 |
对比-84862039.50
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84862041.00
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制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
(制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机)
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13% |
台/千克 |
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42条 |
对比-84862039.90
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84862049.00
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其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
(其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备)
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13% |
台/千克 |
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50条 |
对比-84862041.00
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84862050.00
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制造半导体器件或集成电路用离子注入机
(制造半导体器件或集成电路用离子注入机)
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13% |
台/千克 |
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11条 |
对比-84862049.00
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84862090.00
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其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
(其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置)
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13% |
台/千克 |
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274条 |
对比-84862050.00
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84863010.00
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制造平板显示器用扩散、氧化、退火及其他热处理设备
(制造平板显示器用扩散、氧化、退火及其他热处理设备)
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13% |
台/千克 |
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7条 |
对比-84862090.00
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84863021.00
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制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)
(制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD))
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13% |
台/千克 |
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1条 |
对比-84863010.00
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84863022.00
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制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)
(制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD))
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13% |
台/千克 |
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1条 |
对比-84863021.00
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84863029.00
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其他制造平板显示器用薄膜沉积设备
(其他制造平板显示器用薄膜沉积设备)
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13% |
台/千克 |
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2条 |
对比-84863022.00
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84863031.00
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制造平板显示器用分步重复光刻机
(制造平板显示器用分步重复光刻机)
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13% |
台/千克 |
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1条 |
对比-84863029.00
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84863039.00
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其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置
(其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置制造平板显示器用的机器及装置)
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13% |
台/千克 |
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12条 |
对比-84863031.00
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84863041.00
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制造平板显示器用超声波清洗装置
(制造平板显示器用超声波清洗装置)
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13% |
台/千克 |
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32条 |
对比-84863039.00
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84863049.00
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其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置
(其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置)
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13% |
台/千克 |
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65条 |
对比-84863041.00
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84863090.00
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其他制造平板显示器用的机器及装置
(其他制造平板显示器用的机器及装置)
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13% |
台/千克 |
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39条 |
对比-84863049.00
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84864010.00
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主要用于或专用于制作和修复掩膜版或投影掩膜版的装置
(主要用于或专用于制作和修复掩膜版或投影掩膜版的装置掩膜版(mask),投影掩膜版(reticle))
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13% |
台/千克 |
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19条 |
对比-84863090.00
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84864021.00
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塑封机
(塑封机主要用于或专用于装配与封装半导体器件和集成电路的设备)
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13% |
台/千克 |
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52条 |
对比-84864010.00
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